超聲波清潔器空化閾值和超聲波的頻率有密切關(guān)系。頻率越高，空化閾越高，換句話說(shuō)，頻率越高，在液體中要發(fā)生空化所需求的聲強(qiáng)或聲功率也越大；頻率低，空化簡(jiǎn)單發(fā)生，同時(shí)在低頻情況下，液體遭到的緊縮和稀疏效果有更長(zhǎng)的時(shí)刻距離。
使氣泡在潰散前能生長(zhǎng)到較大的尺寸，增高空化強(qiáng)度，有利于清潔效果。現(xiàn)在超聲波清潔器的作業(yè)頻率根據(jù)清潔目標(biāo)，大致分為三個(gè)頻段；低頻超聲清潔(20一50KHz)，高頻超聲清潔(50—200KHz)和兆赫超聲清潔(700KHz一1MHz以上)。低頻超聲波清潔器適用于大部件外表或許污物和清潔件外表聯(lián)系強(qiáng)度高的場(chǎng)合。頻率的低端，空化強(qiáng)度高。
易腐蝕清潔件外表，不適宜清潔外表光潔度高的部件，并且空化噪聲大。超聲波清潔器40KHz擺布的頻率，在一樣聲強(qiáng)下，發(fā)生的空化泡數(shù)量比頻率為20KHz時(shí)多，穿透力較強(qiáng)，宜清潔外表形狀雜亂或有盲孔的工件，空化噪聲較小。但空化強(qiáng)度較低，合適清潔污物與被清潔件外表聯(lián)系力較弱的場(chǎng)合，高頻超聲清潔適用于計(jì)算機(jī)。
微電子元件的精密清潔，如磁盤、驅(qū)動(dòng)器，讀寫頭，液晶玻璃及平面顯示器，微組件和拋光金屬件等的清潔。這些清潔目標(biāo)要求在清潔過程中不能遭到空化腐蝕。要能洗掉微米級(jí)的污物。兆赫超聲波清潔器適用于集成電路芯片、硅片及簿膜等的清潔。能去掉微米、亞微米級(jí)的污物而對(duì)清潔件沒有任何損害。
由于此刻不發(fā)生空化。超聲波清潔器清潔機(jī)理主要是聲壓梯度。粒子速度和聲流的效果。特點(diǎn)是清潔方向性強(qiáng)，被清潔件通常置于與聲束平行的方向。
